真空镀膜是真空应用领域的一项突破性技术。它采用物理或化学方法，吸收了一系列新技术，为实际生产中的产品制造薄膜保护层。工艺主要分为真空蒸镀、磁控溅射镀膜、离子镀三种。
为了成为电子元器件制造中不可缺少的技术，主要是使产品的表面具有比产品本身更好的性能，如耐磨、耐高温、耐腐蚀等，从而达到提高产品质量，延长加工产品的使用寿命。 ，不仅如此，还能节约能源，获得更显着的技术和经济效益。
在实际应用中，我们往往会根据产品的性质来决定选择哪种真空镀膜工艺。磁控溅射主要用于金属制品，蒸发镀主要用于塑料制品，光学离子镀主要用于玻璃制品。
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