真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。那么我们要怎么去选择真空镀膜电源呢？
选择真空镀膜电源有三个要求：第一，要符合电镀工艺所要求的规范，包括真空镀膜电源的功率大小、波形指标、电流电压值可调范围等；
第二，是电源本身的可靠性能，这主要是指结构的合理性、安全性以及线路特点、冷却方式
第三，要考虑其价格的性价比。确定一个镀种及其所有的镀槽要配置多大的和什么样的电源是实施电镀生产首要的重要工作。实际生产当中确定确定真空镀膜电源有两种方法：一种要根据镀液容量来确定的体积电流密度法；另一种是按受镀面积来计算的单位面积电流密度法。根据受镀面积也可以计算出很大电流。以镀铬为例，如果是600L的镀液，在60℃时，允许的很大电流密度为100A/dm2，设镀槽满载时可以镀10dm2，则所需要的电源很大输出电流100A/dm2×10dm2=1000A，也就是要配置1000A、18V的整流电源。在确定了电源的功率大小以后。还要根据电镀工艺的需要和电镀现场的条件来选择真空镀膜电源的波形、冷却方式、体积大小和防腐蚀能力等，包括成本因素综合仅以平衡。
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