分析弧源、多弧离子镀膜生产过程系统！

     多弧离子渡膜技术是当前最先进的离子镀技术之一,它是利用冷场致发射电弧提供高密度金属离子流,是各种离子镀技术中金属离化率最高的技太,有利于在高速钢刀具上沉积氮化从超硬涂层。1085一1 986年我国引进的.九台刀具离子镀设备中有七台是多弧离子镀设备。

      多弧离子镀是在真空电弧和离子镀技术基础上发展起来的一种新式镀膜技术。近些年，随着其工艺的逐渐完善，以其离化率高、散射性好、膜层致密以及附着力强等优点，在冶金、机械加工、高温防护、装饰材料等众多行业得到了广泛的应用。多弧离子镀生产过程复杂，影响镀膜质量因素众多，且被控对象存在非线性、时变性、不对称性等特点，无法建立精确的数学模型，因此传统控制方式无法实现生产过程的有效控制。

     基体温度，气体流量，靶电流等几个参数对膜层质量的影响。重点分析了温控对象的数学模型，并根据真空室温度的特点，提出了一种基于粒子群优化的插值模糊PID方案。首先利用Z-N法整定出4组12个PID参数，再利用粒子群算法寻优能力强的特点，对PID参数进行优化。并将模糊控制与PID控制相结合，形成智能复合控制策略，使控制器同时具有PID的稳态精度高与模糊控制的鲁棒性好的优点。仿真结果表明，此控制方案简单，有效，满足控制要求。