真空镀膜的两种方式

 　　真空镀膜主要是可以分为两个大种类：蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜，但是这两个之后具体还包括很多种类的，包括真空离子蒸发，磁控溅射，M等等。

　　 一、蒸发镀膜： 一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且让它自由沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜，完成真空镀膜的过程。

　　 二、溅射类镀膜：我们可以把这种方法理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片的表面，经历成膜过程，最终形成真空镀膜电源的过程。